采用先进的冶炼与加工工艺方法生产的金属靶材，具有纯度高、致密度高、组织结构优良、外形尺寸精密、使用寿命长等优点。产品类型包括纯金属及合金靶材，产品规格有圆形、环形、矩形和各种复杂形状，并可根据用户要求订制。各种溅射靶材被大量用于电子工业、玻璃工业、耐磨镀层、建材装饰。

溅射靶材和光学蒸膜材料和可以适用于目前市场上所有的镀膜系统，包括磁控溅，等离子辅助蒸镀等系统。溅射靶材包括纯金属靶材和合金靶材等不同规格的溅射靶材，单一氧化物靶材，复合氧化物靶材，光学蒸镀产品按类型可以分为单一氧化物,单一氟化物,纯金属和各类复合材料。

磁控溅射膜是采用磁控溅射工艺在专用的真空磁控溅射镀膜机内利用高速电子撞击靶材,将靶材表面的珍稀金属溅射成金属原子,单层或多层金属或金属氧化物通过溅射工艺,然后制成多层致密的低反射高隔热的金属膜层,有序、均匀地涂布于薄膜或其它材料的表面。

我们提供的溅射靶材在发货前都经过仔细清洁，可包装在真空容器中或按客户要求包装在有惰性气体保护的包装中。

铱磁控溅射靶材